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回学校前，他看到了1次脉冲、5次脉冲和10次脉冲处理后的实验材料的表面照片。
算是符合实验预期，经高脉冲离子束表面处理后，实验材料表面出现了直径大约在几十微米的熔坑。
尤其是5次脉冲条件下的表面，完全是坑坑洼洼的，看不到一点平整的地方。
1次脉冲离子束处理后，虽然也存在大量的呈网状分布的熔坑，但好歹还能瞅一眼。
不过，经过10次脉冲离子束处理后的材料表面，已经可以看到零散且独立分布的熔坑。
而且，熔坑的分布已经几乎没有了网状结构。
仅从这少量的实验现象来看的话，1次脉冲时，强度不够，熔坑才刚出现。
5次脉冲时，就已经全部“打烂了”。
10次脉冲时，就是朝着实验所需要的结果在走了。
因此，可以初步判断实验的进行，还算顺利。
也就是说，随着脉冲处理次数的增加，熔坑数量逐步减少，尺寸变小，且深度变浅，不规则网状结构逐步消失，并且呈现出独立分布状态。
这也就可以预期，经过多次脉冲处理后，材料表层显微区域将逐步平整光滑起来。
回到燕大后，陈舟就带着电脑和一应物品来到了图书馆。
实验已经开始了，他并不像干等着实验数据。
他准备像前几次一样，自己把握实验的节奏。
电脑连接上图书馆的网络，陈舟就开始搜索起了相关的文献资料。
主要是两个方面的。
一个是实验本身，针对强脉冲离子束材料表面改性技术研究的资料。
一个则是他的推测，对材料表面改性的强脉冲离子束的研究资料。
两手准备，两手都要抓。
自然的，杰波夫猜想和杨院长刚提的加速器二极管的优化设计研究，就被他短暂的放在了一边。
杨依依并没有跟着陈舟回来，而是留在了实验室。
在这里，才能验证她的实验猜测。
两天后，陈舟拿到了实验数据，开始对数据进行处理。
但令陈舟感到诧异的是，这实验数据的结果，未免有些太理想了吧？
对比各种频率下的脉冲处理结果，很明显的就能看到经30次脉冲离子束处理后的材料表面，熔坑个数最少，尺寸最小，熔坑深度最浅。
而且网状结构完全消失，表面形貌显示的最为平整光滑。
同时，经过30次脉冲离子束处理后的界面形貌，重熔层的厚度大约是8μm，与基体的分界明显。
重熔层内没有明显晶界，而基体内晶界明显。
完美的符合了实验预期。
陈舟现在大概就是“真的”处理实验数据了，因为可调整的余地已经不大。
或者，他按照自己的猜测，开始进行深度的挖掘。
想到这，陈舟微微偏头看向坐在身旁的杨依依。
杨依依也正看着他，面带微笑。
只不过，笑容中有着一丝明显的得意之色。
陈舟瞬间明白了，这次实验的工艺参数，应该就是出自杨依依之手。
“依依，这是你优化的实验设计？”