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陈舟把主要的整理任务分别交给了张一凡和沈靖，这也让他有了时间，可以更多的去研究金刚石薄膜的整个制备工艺。
只有完全了解，才能改进制备方法。
而且，陈舟并不打算一开始就针对MPCVD法去研究。
他打算先全面一点，再寻求突破。
金刚石薄膜的制备方法有一个变迁。
从上世纪50年代的高温高压，到80年代初日国科学家首次使用的CVD法，再到今天的多种合成方法。
说是多种合成方法，但其实也都是基于CVD法的基础上，进行改进的。
【热丝CVD法（HFCVD）制备金刚石膜】
这篇文献对于HFCVD法制备金刚石膜的介绍比较全面。
虽然这种方法是CVD法的鼻祖，但是现在使用的仍然非常普遍，而且发展成沉积金刚石薄膜较为成熟的方法之一。
这种方法需要在衬底上方设置金属热丝，常用的像钨丝、钽丝。
再将含碳气体高温加热到2000～2200℃，进行分解，形成活性粒子。
在氢原子作用下，就会在衬底上沉积而形成金刚石。
这种方法，虽然简单，但是沉积效率很低，比四十三所现在用的方法要低很多。
不仅如此，而且工艺稳定性差，容易造成污染。
虽然文献中还提了两种改良的方法，但是陈舟同样不认同。
因为效率是提高了，但是金刚石薄膜的质量，还是太低。
对于金刚石半导体材料和器件的研究，显然不适用。
但是，改良方法，陈舟觉得可以一试。
一种是反应气体分送的HFCVD法，也就是把碳源气体和氢气由热丝的下方和上方分别送入。
另一种是电子助进的HFCVD法，通过给衬底加大约150V的偏压，实现沉积速率的提升。
陈舟看文献的速度很快，即使是一边看一边记的情况，他的效率也远远超过了其他人。
这也得益于他系统学科升级所提供的加成。
在来之前，他把化学也悄悄的升到了Lv2，以备不时之需。
所以，有了化学学科等级的加成，陈舟疯狂的汲取着相关的化学知识。
和学数学物理不同的是，陈舟不打算用同样的方法去学化学和生物。
化学和生物这两门更偏向于实验和应用的学科，陈舟打算从实验和应用入手。
借助学科等级的加成，以高效的学习，从实验和应用中去找未知。
再通过查资料去弥补那个未知。
这样虽然没有数学和物理学的系统，但是效率却很高。
而且很适用于现在的陈舟。
把HFCVD法的文献看了三篇后，陈舟觉得大致的思路都差不多，便不再这个方法再做纠缠。
转而，他开始看下一种方法，燃烧火焰沉积法（Flame Deposition）。
这种方法最早也是由日国学者提出的，只不过是在大西洋彼岸实验室得到证实的。
这种方法主要就是将碳源气和氧气混合，在大气中燃烧。
燃烧的火焰分三个区，除了内焰和外焰外，还有一层还原焰。